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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5174712 | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビームにおける位置補正処理方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5174498 | 荷電粒子ビーム装置 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5174483 | 荷電粒子ビーム装置、及び試料の表面の帯電状態を知る方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5174319 | エッチング処理装置およびエッチング処理方法 | 2013年 4月 3日 | |
| 特許 5172162 | 欠陥検査装置 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171744 | 欠陥検査方法およびその装置 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171668 | 基板の位置ずれを補正する方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171524 | 物体表面の欠陥検査装置および方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171519 | 粒子自動分析装置の画面表示方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171368 | 自動分析装置 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171312 | 質量分析装置、質量分析用データ処理装置およびデータ処理方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171101 | 電子線照射条件決定支援ユニット、および電子線式試料検査装置 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171346 | 文字列検索システム及び方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171091 | プラズマ処理方法 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5171071 | 撮像倍率調整方法及び荷電粒子線装置 | 2013年 3月27日 |
717 件中 586-600 件を表示
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5174712 5174498 5174483 5174319 5172162 5171744 5171668 5171524 5171519 5171368 5171312 5171101 5171346 5171091 5171071
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