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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5149610 | プラズマ処理装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5149387 | 荷電粒子銃及びこれを用いた集束イオンビーム装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5147327 | 荷電粒子ビーム照射装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5144415 | 欠陥レビュー装置、欠陥レビュー方法及び欠陥レビュー実行プログラム | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5143787 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置を利用した評価方法 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5143636 | 自動分析装置 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5143264 | 溶液収納装置 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5142976 | 自動分析装置 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5142240 | 荷電ビーム装置及び荷電ビーム加工方法 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5142818 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のチャック高さ調整方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5145116 | 表面欠陥データ表示管理装置および表面欠陥データ表示管理方法 | 2013年 2月13日 | |
| 特許 5137444 | ＯＰＣモデリング構築方法、情報処理装置、及び半導体デバイスのプロセス条件を決定する方法 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5140103 | リニアモータ対、移動ステージ、及び電子顕微鏡 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5139248 | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線評価装置 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5135116 | 荷電粒子線を用いた検査方法および検査装置 | 2013年 1月30日 |
717 件中 646-660 件を表示
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5149610 5149387 5147327 5144415 5143787 5143636 5143264 5142976 5142240 5142818 5145116 5137444 5140103 5139248 5135116
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