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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4806214 | 電子捕獲解離反応装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806598 | 真空処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804824 | プラズマ処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4801697 | 画像形成方法，画像形成装置、及びコンピュータプログラム | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801007 | 電気泳動装置及びそれに用いられるポンプ機構 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801451 | 走査電子顕微鏡等に用いる電子銃の制御装置及び制御方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801542 | 自動分析装置 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801795 | パターン形状評価方法及び電子顕微鏡 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801522 | 半導体製造装置及びプラズマ処理方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801518 | 荷電粒子線顕微方法および荷電粒子線装置 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801427 | パターン形状評価方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4801545 | 欠陥検査解析システム、欠陥検査解析方法及びこれに用いる管理コンピュータ | 2011年10月26日 | |
| 特許 4799324 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4800044 | プラズマ処理装置および処理方法 | 2011年10月26日 | |
| 特許 4799172 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年10月26日 |
350 件中 61-75 件を表示
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4806214 4806598 4804824 4801697 4801007 4801451 4801542 4801795 4801522 4801518 4801427 4801545 4799324 4800044 4799172
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