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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5066056 | 試料観察方法、及び電子顕微鏡 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5066110 | 蛍光分析装置、及び蛍光分析方法 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5065943 | 製造プロセスモニタリングシステム | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5065796 | 走査電子顕微鏡 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5066393 | 異物・欠陥検査・観察システム | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5070074 | 走査電子顕微鏡 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5063551 | パターンマッチング方法、及び画像処理装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063154 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5064955 | 微動ステージ、微粗動アクチュエータ装置、及び、磁気ヘッド検査装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063149 | 液体クロマトグラフ装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063626 | プラズマ処理装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063620 | 自動分析装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063535 | プラズマ処理方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063623 | 分析装置、及び円盤ディスクの回転制御方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063715 | 電子源，電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置 | 2012年10月31日 |
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5066056 5066110 5065943 5065796 5066393 5070074 5063551 5063154 5064955 5063149 5063626 5063620 5063535 5063623 5063715
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