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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4778755 | 欠陥検査方法及びこれを用いた装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4778748 | 液体クロマトグラフ装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4776321 | 間隔測定方法及び間隔測定装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4778408 | ディスクのチャック機構およびディスクキャリア | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4774383 | データ処理装置、およびデータ処理方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4774167 | プロキシミティ露光装置及びその装置におけるフォトマスク変形補正方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773058 | 画像データ転送方法、画像処理装置およびウェハ外観検査装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773079 | プラズマ処理装置の制御方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4768001 | 有機ＥＬデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4769828 | 荷電粒子ビーム装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4769105 | ディスクの表面欠陥検査方法および検査装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4764436 | 外観検査方法及び検査装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4769025 | 走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767270 | 走査電子顕微鏡を備えた外観検査装置及び走査電子顕微鏡を用いた画像データの処理方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4764028 | プラズマ処理方法 | 2011年 8月31日 |
350 件中 106-120 件を表示
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4778755 4778748 4776321 4778408 4774383 4774167 4773058 4773079 4768001 4769828 4769105 4764436 4769025 4767270 4764028
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