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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5053342 | ヒ素、セレン及びアンチモンの分別定量分析方法並びに分別定量分析システム | 2012年10月17日 | |
| 特許 5052438 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5048596 | 試料台，試料回転ホルダ，試料台作製方法，及び試料分析方法 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5049808 | 送液装置及びそれを有する分析装置 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5049609 | 液体クロマトグラム装置 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5046804 | 自動分析装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5047248 | フローセル，検出器、および液体クロマトグラフ | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043066 | 磁気ヘッドセトリング時間を考慮した最適なシーク時間測定方法およびこの測定方法を使用する検査装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5047040 | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板移動方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043741 | 半導体パターンの検査方法及び検査装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5046586 | 自動分析装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5047318 | 電子顕微鏡画像と光学画像を重ねて表示する方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5042752 | ガラスディスクの周面欠陥検出光学系および周面欠陥検出装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5042918 | 絶縁油中のポリ塩化ビフェニル類の分析方法及び分析装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5038259 | クリーニング装置およびクリーニング方法 | 2012年10月 3日 |
547 件中 121-135 件を表示
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5053342 5052438 5048596 5049808 5049609 5046804 5047248 5043066 5047040 5043741 5046586 5047318 5042752 5042918 5038259
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