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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第223位 204件 (2013年:第358位 118件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第333位 116件 (2013年:第276位 144件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5647327 | 荷電粒子線による検査装置及びその検査装置を用いたデバイス製造方法 | 2014年12月24日 | |
特許 5646031 | 研磨方法 | 2014年12月24日 | |
特許 5645752 | 基板洗浄方法及びロール洗浄部材 | 2014年12月24日 | |
特許 5647557 | 異種金属のライニング方法 | 2014年12月24日 | |
特許 5642517 | めっき装置及びめっき方法 | 2014年12月17日 | |
特許 5643385 | 増圧給水システム | 2014年12月17日 | |
特許 5643239 | 基板ホルダ及びめっき装置 | 2014年12月17日 | |
特許 5635422 | 基板乾燥方法、制御プログラム及び基板乾燥装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5635482 | 弾性膜 | 2014年12月 3日 | |
特許 5632132 | 基板処理方法 | 2014年11月26日 | |
特許 5632866 | 海水淡水化システムおよびエネルギー回収装置 | 2014年11月26日 | |
特許 5628067 | 研磨パッドの温度調整機構を備えた研磨装置 | 2014年11月19日 | |
特許 5628384 | 渦防止装置およびポンプ装置 | 2014年11月19日 | |
特許 5620680 | スケジューラ、基板処理装置、及び基板処理装置の運転方法 | 2014年11月 5日 | |
特許 5620208 | 渦防止装置を備えた両吸込み縦型ポンプ | 2014年11月 5日 |
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5647327 5646031 5645752 5647557 5642517 5643385 5643239 5635422 5635482 5632132 5632866 5628067 5628384 5620680 5620208
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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