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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-258214 | リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-257531 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-254934 | 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法 | 2013年12月19日 | |
| 特開 2013-251348 | 基板保持装置及び基板処理装置 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-251459 | シリコン異方性エッチング方法 | 2013年12月12日 | |
| 特開 2013-246203 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び高分子化合物の製造方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-247299 | 洗浄装置及び洗浄方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-243226 | 重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-242555 | 遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243317 | 塗布装置、基板処理システムおよび基板処理方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243172 | 剥離装置および剥離方法 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-243174 | 支持体 | 2013年12月 5日 | |
| 特開 2013-239650 | 支持体分離方法および支持体分離装置 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-237042 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年11月28日 | |
| 特開 2013-239499 | 貼付装置および貼付方法 | 2013年11月28日 |
206 件中 1-15 件を表示
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2013-258214 2013-257531 2013-254934 2013-251348 2013-251459 2013-246203 2013-247299 2013-243226 2013-242555 2013-243317 2013-243172 2013-243174 2013-239650 2013-237042 2013-239499
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