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東京応化工業株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第230位 206件 上昇2012年:第333位 124件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第194位 216件 上昇2012年:第259位 143件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-258214 リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法 2013年12月26日
特開 2013-257531 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 2013年12月26日
特開 2013-254934 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法 2013年12月19日
特開 2013-251348 基板保持装置及び基板処理装置 2013年12月12日
特開 2013-251459 シリコン異方性エッチング方法 2013年12月12日
特開 2013-246203 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び高分子化合物の製造方法 2013年12月 9日
特開 2013-247299 洗浄装置及び洗浄方法 2013年12月 9日
特開 2013-243226 重ね合わせ装置および重ね合わせ方法 2013年12月 5日
特開 2013-242555 遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法 2013年12月 5日
特開 2013-243317 塗布装置、基板処理システムおよび基板処理方法 2013年12月 5日
特開 2013-243172 剥離装置および剥離方法 2013年12月 5日
特開 2013-243174 支持体 2013年12月 5日
特開 2013-239650 支持体分離方法および支持体分離装置 2013年11月28日
特開 2013-237042 塗布装置及び塗布方法 2013年11月28日
特開 2013-239499 貼付装置および貼付方法 2013年11月28日

206 件中 1-15 件を表示

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2013-258214 2013-257531 2013-254934 2013-251348 2013-251459 2013-246203 2013-247299 2013-243226 2013-242555 2013-243317 2013-243172 2013-243174 2013-239650 2013-237042 2013-239499

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