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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件 (2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-104985 | EUV用又はEB用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-105147 | レジストパターン形成方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-102052 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-101355 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-101222 | EUV用またはEB用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-101277 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-101390 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-97274 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-97272 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-95880 | 高分子化合物の製造方法、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-95844 | 水溶性塗布膜材料、水溶性塗布膜材料の粘度調整方法、及び水溶性塗布膜材料用粘度調整剤 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-97193 | フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-92618 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-92736 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、新規な化合物 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-91773 | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、スペーサ、及び表示装置 | 2013年 5月16日 |
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2013-104985 2013-105147 2013-102052 2013-101355 2013-101222 2013-101277 2013-101390 2013-97274 2013-97272 2013-95880 2013-95844 2013-97193 2013-92618 2013-92736 2013-91773
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -