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東京応化工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
（
2010年：第258位 187件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
（
2010年：第315位 98件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-227290 | 保護膜形成用材料及びレジストパターン形成方法 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-225486 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2011年11月10日 | |
| 特開 2011-219506 | 接着剤組成物 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-222562 | 剥離方法、および剥離液 | 2011年11月 4日 | |
| 特開 2011-215270 | 樹脂パターンの製造方法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-215177 | レジストパターン形成方法及び樹脂の精製方法 | 2011年10月27日 | |
| 特開 2011-209501 | レジストパターン形成方法およびレジスト組成物 | 2011年10月20日 | |
| 特開 2011-197425 | 表面改質材料、レジストパターン形成方法及びパターン形成方法 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-197628 | パターン形成方法 | 2011年10月 6日 | |
| 特開 2011-190455 | 高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2011年 9月29日 | |
| 特開 2011-191727 | レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 | 2011年 9月29日 | |
| 特開 2011-191734 | フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法 | 2011年 9月29日 | |
| 再表 2009-139421 | ポジ型感光性組成物 | 2011年 9月22日 | 共同出願 |
| 特開 2011-180520 | ポジ型感光性樹脂組成物及びその硬化物 | 2011年 9月15日 | |
| 特開 2011-180569 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含窒素有機化合物 | 2011年 9月15日 |
107 件中 16-30 件を表示
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2011-227290 2011-225486 2011-219506 2011-222562 2011-215270 2011-215177 2011-209501 2011-197425 2011-197628 2011-190455 2011-191727 2011-191734 2009-139421 2011-180520 2011-180569
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