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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
(2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
(2012年:第259位 143件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-239499 | 貼付装置および貼付方法 | 2013年11月28日 | |
特開 2013-235115 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 | 2013年11月21日 | |
特開 2013-234315 | 接着剤組成物、接着フィルム、及び貼付方法 | 2013年11月21日 | |
特開 2013-231935 | ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231992 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-232006 | レジストパターン形成方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-229391 | 膜形成用組成物、拡散剤組成物、膜形成用組成物の製造方法、及び拡散剤組成物の製造方法 | 2013年11月 7日 | |
特開 2013-229511 | 2個以上の孤立ホールが並んでなるパターンの形成方法 | 2013年11月 7日 | |
特開 2013-228550 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年11月 7日 | |
特開 2013-228662 | 絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、絶縁膜、及び絶縁膜の形成方法 | 2013年11月 7日 | |
特開 2013-228664 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2013年11月 7日 | |
特開 2013-225026 | パターンの縮小方法、及び組成物 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-225024 | パターン形成方法 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-225125 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-225126 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2013年10月31日 |
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2013-239499 2013-235115 2013-234315 2013-231935 2013-231992 2013-232006 2013-229391 2013-229511 2013-228550 2013-228662 2013-228664 2013-225026 2013-225024 2013-225125 2013-225126
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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