特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2025年5月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-181898	エアギャップ形成用シリカ系被膜形成材料及びエアギャップ形成方法	2011年 9月15日
特開 2011-173956	接着剤組成物および接着フィルム	2011年 9月 8日
特開 2011-173955	接着剤組成物、接着フィルムおよび分離方法	2011年 9月 8日
特開 2011-171600	不純物拡散成分の拡散方法、および太陽電池の製造方法	2011年 9月 1日
特開 2011-170075	感光性組成物	2011年 9月 1日
特開 2011-164293	リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法	2011年 8月25日
特開 2011-162796	高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年 8月25日
特開 2011-158879	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2011年 8月18日
特開 2011-151416	処理装置および処理方法、ならびに表面処理治具	2011年 8月 4日
特開 2011-146457	分離方法及び分離装置	2011年 7月28日
特開 2011-145561	フォトリソグラフィ用現像液	2011年 7月28日
特開 2011-145557	フォトリソグラフィ用現像液	2011年 7月28日
特開 2011-141332	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 7月21日
特開 2011-141382	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2011年 7月21日
特開 2011-138003	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 7月14日

107 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-181898 2011-173956 2011-173955 2011-171600 2011-170075 2011-164293 2011-162796 2011-158879 2011-151416 2011-146457 2011-145561 2011-145557 2011-141332 2011-141382 2011-138003

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数