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東京応化工業株式会社

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-113034	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月 9日
特開 2011-107192	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 6月 2日
特開 2011-107193	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 6月 2日
特開 2011-102924	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 5月26日
特開 2011-96839	紫外線照射装置、紫外線照射方法及び基板処理装置	2011年 5月12日
特開 2011-95429	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2011年 5月12日
特開 2011-90043	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物	2011年 5月 6日
特開 2011-88121	塗布装置	2011年 5月 6日
特開 2011-91349	表面処理剤及び表面処理方法	2011年 5月 6日
特開 2011-85919	保護膜形成用材料及びホトレジストパターン形成方法	2011年 4月28日
特開 2011-85878	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤	2011年 4月28日
特開 2011-86875	塗布装置	2011年 4月28日	共同出願
特開 2011-83748	塗布方法、及び塗布装置	2011年 4月28日
特開 2011-81146	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤	2011年 4月21日
特開 2011-81044	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2011年 4月21日

107 件中 61-75 件を表示

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2011-113034 2011-107192 2011-107193 2011-102924 2011-96839 2011-95429 2011-90043 2011-88121 2011-91349 2011-85919 2011-85878 2011-86875 2011-83748 2011-81146 2011-81044

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