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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-190693 | 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-189622 | 接着剤組成物及び接着フィルム | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-191800 | 光インプリント用の膜形成組成物及び光学部材の製造方法 | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-191756 | 保持装置及び基板処理装置 | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-189571 | 下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法 | 2013年 9月26日 | |
| 特開 2013-187408 | ブロックコポリマー含有組成物及びパターンの縮小方法 | 2013年 9月19日 | |
| 特開 2013-181126 | 化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年 9月12日 | |
| 特開 2013-182084 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月12日 | |
| 特開 2013-182083 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月12日 | |
| 特開 2013-180923 | グラフェン基板の製造方法 | 2013年 9月12日 | 共同出願 |
| 特開 2013-177555 | 剥離用組成物及び剥離用組成物の製造方法 | 2013年 9月 9日 | |
| 特開 2013-177537 | 表面処理剤及び表面処理方法 | 2013年 9月 9日 | |
| 特開 2013-178515 | レジストパターン形成方法及び溶剤現像ネガ型レジスト組成物 | 2013年 9月 9日 | |
| 特開 2013-173935 | 共重合体、樹脂組成物、および共重合体の製造方法 | 2013年 9月 5日 | |
| 特開 2013-174663 | レジストパターン形成方法 | 2013年 9月 5日 |
206 件中 61-75 件を表示
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2013-190693 2013-189622 2013-191800 2013-191756 2013-189571 2013-187408 2013-181126 2013-182084 2013-182083 2013-180923 2013-177555 2013-177537 2013-178515 2013-173935 2013-174663
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