特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-43786	パターン形成方法	2011年 3月 3日
特開 2011-43749	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2011年 3月 3日
特開 2011-35380	基板処理システム	2011年 2月17日
特開 2011-32412	接着剤組成物、及び接着フィルム	2011年 2月17日
特開 2011-35379	塗布装置及びノズルの管理方法	2011年 2月17日
特開 2011-26548	接着剤組成物および接着フィルム	2011年 2月10日
特開 2011-23689	サポートプレートの洗浄方法	2011年 2月 3日
特開 2011-23698	ナノインプリント用組成物およびパターン形成方法	2011年 2月 3日
再表 2009-41681	共重合体、樹脂組成物、表示パネル用スペーサー、平坦化膜、熱硬化性保護膜、マイクロレンズ、および共重合体の製造方法	2011年 1月27日
特開 2011-13569	ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物	2011年 1月20日
特開 2011-13502	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2011年 1月20日
特開 2011-13501	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2011年 1月20日
特開 2011-12098	接着剤組成物および接着フィルム	2011年 1月20日
特開 2011-8001	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 1月13日
特開 2011-6595	接着剤組成物、および接着フィルム	2011年 1月13日

107 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-43786 2011-43749 2011-35380 2011-32412 2011-35379 2011-26548 2011-23689 2011-23698 2009-41681 2011-13569 2011-13502 2011-13501 2011-12098 2011-8001 2011-6595

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数