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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5016296 | 接着剤組成物、及び接着フィルム | 2012年 9月 5日 | |
特許 5020646 | 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5020645 | 感光性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5016321 | サポートプレートの処理方法 | 2012年 9月 5日 | |
特許 5010995 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5006013 | 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5008908 | 注出口付き包装袋 | 2012年 8月22日 | 共同出願 |
特許 5008838 | 高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5008340 | 基板の薄板化方法、貼り合わせシステムおよび薄板化システム | 2012年 8月22日 | |
特許 5009718 | スリットノズル待機ユニット | 2012年 8月22日 | |
特許 5002323 | 含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000241 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5001192 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000250 | パターン形成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 5000112 | ナノインプリントリソグラフィによるパターン形成方法 | 2012年 8月15日 |
143 件中 46-60 件を表示
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5016296 5020646 5020645 5016321 5010995 5006013 5008908 5008838 5008340 5009718 5002323 5000241 5001192 5000250 5000112
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