ホーム > 特許ランキング > 東京応化工業株式会社 > 2012年 > 特許一覧
東京応化工業株式会社
※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4991150 | レジスト組成物およびレジスト組成物の製造方法 | 2012年 8月 1日 | |
| 特許 4987837 | 高分子化合物 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986490 | 予備吐出装置 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4982285 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4987411 | パターン形成方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986634 | 気体噴出機構およびこれを組込んだ基板処理装置 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4982292 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4980038 | 保護膜形成用材料及びホトレジストパターンの形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980406 | レジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4976829 | 接着剤組成物、及び接着フィルム | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4979915 | 高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980040 | レジスト被覆膜形成用材料およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980078 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4979409 | 塗布装置 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4970977 | 反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 | 2012年 7月11日 |
143 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4991150 4987837 4986490 4982285 4987411 4986634 4982292 4980038 4980406 4976829 4979915 4980040 4980078 4979409 4970977
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所（東京都）－ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル５階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定
大阪府大阪市北区西天満３丁目５－１０ オフィスポート大阪８０１号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング
