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東京応化工業株式会社
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（
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（
2011年：第252位 139件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4991150 | レジスト組成物およびレジスト組成物の製造方法 | 2012年 8月 1日 | |
| 特許 4987837 | 高分子化合物 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986490 | 予備吐出装置 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4982285 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4987411 | パターン形成方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4986634 | 気体噴出機構およびこれを組込んだ基板処理装置 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4982292 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4980038 | 保護膜形成用材料及びホトレジストパターンの形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980406 | レジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4976829 | 接着剤組成物、及び接着フィルム | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4979915 | 高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980040 | レジスト被覆膜形成用材料およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4980078 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4979409 | 塗布装置 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4970977 | 反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 | 2012年 7月11日 |
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4991150 4987837 4986490 4982285 4987411 4986634 4982292 4980038 4980406 4976829 4979915 4980040 4980078 4979409 4970977
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