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東京応化工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第333位 124件 上昇2011年:第366位 107件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第259位 143件 下降2011年:第252位 139件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4975382 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 7月11日
特許 4971078 表面処理装置 2012年 7月11日
特許 4970803 膜形成用材料の製造方法 2012年 7月11日 共同出願
特許 4969916 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 7月 4日
特許 4969829 化合物およびその製造方法 2012年 7月 4日
特許 4965485 処理液浸透ユニットおよび処理装置 2012年 7月 4日
特許 4963254 ナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 2012年 6月27日
特許 4964107 剥離装置 2012年 6月27日
特許 4954576 厚膜レジスト積層体およびその製造方法、レジストパターン形成方法 2012年 6月20日
特許 4959171 化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2012年 6月20日
特許 4958287 剥がし装置における剥離方法 2012年 6月20日
特許 4949692 低屈折率シリカ系被膜形成用組成物 2012年 6月13日
特許 4949810 着色感光性樹脂組成物 2012年 6月13日
特許 4951395 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 6月13日
特許 4951411 ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 2012年 6月13日

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4975382 4971078 4970803 4969916 4969829 4965485 4963254 4964107 4954576 4959171 4958287 4949692 4949810 4951395 4951411

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