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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5303231 | 塗布装置 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5303129 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5303125 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5303122 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5301120 | 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297775 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5301598 | 液体薬品の分配方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5301082 | 化合物、膜形成用組成物および積層体の製造方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5301070 | 液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、および該保護膜を用いたレジストパターン形成方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297774 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297875 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297671 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297776 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297658 | レジスト液供給回収システム | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5292133 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 9月18日 |
216 件中 76-90 件を表示
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5303231 5303129 5303125 5303122 5301120 5297775 5301598 5301082 5301070 5297774 5297875 5297671 5297776 5297658 5292133
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