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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第570位 60件 (2011年:第621位 55件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第926位 32件 (2011年:第785位 36件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-178560 | ガリウムインク、並びにその製造方法および使用方法 | 2012年 9月13日 | |
特開 2012-172150 | ガリウム配合インク、並びにその製造方法および使用方法 | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-162707 | モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2012年 8月30日 | 共同出願 |
特開 2012-148337 | アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 8月 9日 | 共同出願 |
特開 2012-149253 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2012年 8月 9日 | 共同出願 |
特開 2012-149252 | ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2012年 8月 9日 | 共同出願 |
特開 2012-150469 | 上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-149351 | 平滑化剤化合物 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-141613 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-141614 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィのための方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-140426 | 光酸発生モノマーを製造する方法 | 2012年 7月26日 | 共同出願 |
特開 2012-140620 | 重合性光酸発生剤 | 2012年 7月26日 | 共同出願 |
特開 2012-136692 | 感光性コポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-135814 | 硬化性アミンフラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2012年 7月19日 | 共同出願 |
特開 2012-136511 | 光酸発生剤 | 2012年 7月19日 | 共同出願 |
60 件中 16-30 件を表示
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2012-178560 2012-172150 2012-162707 2012-148337 2012-149253 2012-149252 2012-150469 2012-149351 2012-141613 2012-141614 2012-140426 2012-140620 2012-136692 2012-135814 2012-136511
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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