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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第573位 66件 (2012年:第570位 60件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第874位 34件 (2012年:第926位 32件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-137513 | ネガティブトーン現像によってフォトリソグラフィパターンを形成する方法 | 2013年 7月11日 | |
特開 2013-127123 | 電気化学的に堆積されたインジウム複合体 | 2013年 6月27日 | |
特開 2013-127052 | モノマー、ポリマーおよびフォトレジスト組成物 | 2013年 6月27日 | |
特開 2013-127610 | 上塗り組成物およびフォトリソグラフィ方法 | 2013年 6月27日 | |
特開 2013-100608 | 高い熱伝導率を有する炭化珪素 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-91850 | めっき浴および方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-91100 | ポリアミン、カルボン酸フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2013年 5月16日 | |
特開 2013-79232 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2013年 5月 2日 | |
特開 2013-78798 | アミン、カルボン酸フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2013年 5月 2日 | 共同出願 |
特開 2013-79230 | カリックスアレーンおよびこれを含むフォトレジスト組成物 | 2013年 5月 2日 | 共同出願 |
特開 2013-79376 | 硬化性アミン、カルボン酸フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2013年 5月 2日 | 共同出願 |
特開 2013-79377 | 硬化性フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2013年 5月 2日 | |
特開 2013-80234 | 光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト | 2013年 5月 2日 | |
特開 2013-78799 | フラックス組成物およびはんだ付け方法 | 2013年 5月 2日 | |
特開 2013-76171 | ホルムアルデヒドを含有しない無電解銅組成物 | 2013年 4月25日 |
66 件中 31-45 件を表示
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2013-137513 2013-127123 2013-127052 2013-127610 2013-100608 2013-91850 2013-91100 2013-79232 2013-78798 2013-79230 2013-79376 2013-79377 2013-80234 2013-78799 2013-76171
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