特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-204742	基板処理装置の処理室内構成部材及びその温度測定方法	2012年10月22日
特開 2012-204669	処理方法および記憶媒体	2012年10月22日
特開 2012-204698	基板処理装置	2012年10月22日
特開 2012-204806	判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラム	2012年10月22日
特開 2012-202971	流量センサ及びこれを用いたレジスト塗布装置	2012年10月22日
特開 2012-204668	プラズマエッチング方法および記憶媒体	2012年10月22日
特開 2012-204644	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2012年10月22日
特開 2012-202692	温度測定装置及び温度測定方法	2012年10月22日
特開 2012-204582	プラズマ処理装置	2012年10月22日
特開 2012-204521	液処理装置及び液処理方法	2012年10月22日
特開 2012-202693	プラズマ処理装置及び温度測定方法	2012年10月22日
特開 2012-204649	基板処理システム及び該基板処理システムにおける熱再利用方法	2012年10月22日
特開 2012-204598	太陽電池	2012年10月22日
特開 2012-196621	水滅菌装置及び水滅菌方法	2012年10月18日
特開 2012-199282	基板保持装置	2012年10月18日

714 件中 151-165 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-204742 2012-204669 2012-204698 2012-204806 2012-202971 2012-204668 2012-204644 2012-202692 2012-204582 2012-204521 2012-202693 2012-204649 2012-204598 2012-196621 2012-199282

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数