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東京エレクトロン株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第31位 234件
（
2025年：第35位 629件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第25位 239件
（
2025年：第23位 821件）
（ランキング更新日：2026年5月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-72136 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2026年 5月 1日 | |
| 特開 2026-71749 | 管理装置、基板処理装置、管理プログラム及び温度制御プログラム | 2026年 4月30日 | |
| 特開 2026-71058 | 基板処理装置およびロックキーの洗浄方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特開 2026-71407 | 半導体製造装置、半導体製造装置の処理実行方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特開 2026-71412 | 剥離方法、剥離装置および剥離システム | 2026年 4月28日 | |
| 特開 2026-69901 | 基板処理方法、及び、基板処理装置 | 2026年 4月27日 | |
| 特開 2026-70046 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2026年 4月27日 | |
| 特開 2026-70457 | 膜特性計測方法及び膜特性計測装置 | 2026年 4月27日 | |
| 特開 2026-68836 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-68837 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-68838 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-69289 | 検査装置、及び温度調整方法 | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-69405 | 静電チャック | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-69537 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2026年 4月23日 | |
| 特開 2026-69592 | 加熱装置及び加熱方法 | 2026年 4月23日 |
236 件中 1-15 件を表示
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2026-72136 2026-71749 2026-71058 2026-71407 2026-71412 2026-69901 2026-70046 2026-70457 2026-68836 2026-68837 2026-68838 2026-69289 2026-69405 2026-69537 2026-69592
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