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東京エレクトロン株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第38位 442件 上昇2020年:第43位 773件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第50位 266件 上昇2020年:第54位 436件)

(ランキング更新日:2021年7月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2019-244696 基板の欠陥検査方法、記憶媒体及び基板の欠陥検査装置 2021年 7月15日
再表 2020-12986 基板処理システム及び基板処理方法 2021年 7月15日
特開 2021-103641 プラズマ発生源の検査方法及び負荷 2021年 7月15日
特開 2021-103659 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2021年 7月15日
特開 2021-103698 基板処理システム 2021年 7月15日
特開 2021-103701 液処理装置、液処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2021年 7月15日
特開 2021-103710 基板処理方法及び基板処理装置 2021年 7月15日
特開 2021-103725 基板処理方法及び基板処理システム 2021年 7月15日
特開 2021-103727 基板処理方法および基板処理装置 2021年 7月15日
特開 2021-103790 基板処理装置及び基板処理方法 2021年 7月15日
再表 2019-239892 基板処理方法、改質装置及び基板処理システム 2021年 7月 8日
再表 2019-244700 プラズマ処理装置及びプラズマエッチング方法 2021年 7月 8日
再表 2019-244853 細胞のゲノム異常の評価方法 2021年 7月 8日
再表 2020-3803 成膜方法、成膜システム、及び成膜装置 2021年 7月 8日
特開 2021-100777 基板処理装置、および基板処理方法 2021年 7月 8日

444 件中 1-15 件を表示

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2019-244696 2020-12986 2021-103641 2021-103659 2021-103698 2021-103701 2021-103710 2021-103725 2021-103727 2021-103790 2019-239892 2019-244700 2019-244853 2020-3803 2021-100777

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