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東京エレクトロン株式会社
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第24位 88件
（
2025年：第35位 629件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第26位 78件
（
2025年：第23位 821件）
（ランキング更新日：2026年2月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-20333 | 成膜方法及び成膜装置 | 2026年 2月 6日 | |
| 特開 2026-20355 | 表示装置 | 2026年 2月 6日 | |
| 特開 2026-20408 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2026年 2月 6日 | |
| 特開 2026-17627 | 成膜方法、保護膜及び基板処理装置 | 2026年 2月 5日 | |
| 特開 2026-18166 | 温度を測定するシステム、及び温度を測定する方法 | 2026年 2月 5日 | |
| 特開 2026-18168 | 基板支持器、プラズマ処理装置及び基板支持器の製造方法 | 2026年 2月 5日 | |
| 特開 2026-19533 | 処理システム、取出治具、及び取出方法 | 2026年 2月 5日 | |
| 特開 2026-17094 | ガス検知装置、ガス供給システム及び基板処理装置 | 2026年 2月 4日 | |
| 特開 2026-15960 | ステージ、および基板処理装置 | 2026年 2月 3日 | |
| 特開 2026-15961 | ステージ、基板処理装置、および温度調整方法 | 2026年 2月 3日 | |
| 特表 2026-503875 | ３次元半導体構造の製造 | 2026年 2月 2日 | |
| 特開 2026-13515 | 成膜装置及びその整備方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-13588 | 成膜方法及び成膜装置 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-13672 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-13804 | 液体回収装置および液体回収方法 | 2026年 1月29日 |
89 件中 1-15 件を表示
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2026-20333 2026-20355 2026-20408 2026-17627 2026-18166 2026-18168 2026-19533 2026-17094 2026-15960 2026-15961 2026-503875 2026-13515 2026-13588 2026-13672 2026-13804
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