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東京エレクトロン株式会社

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第83位　585件（2016年：第61位　616件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第66位　431件（2016年：第49位　561件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-226863	ガス混合装置および基板処理装置	2017年12月28日
特開 2017-226894	プラズマ成膜方法およびプラズマ成膜装置	2017年12月28日
特開 2017-226898	基板処理装置	2017年12月28日
特開 2017-228230	基板処理システムおよび温度制御方法	2017年12月28日
特開 2017-228354	マイクロ波供給装置、プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法	2017年12月28日
特開 2017-228395	プラズマ処理装置	2017年12月28日
特開 2017-228459	プラズマ調整用の支援装置、プラズマ調整方法及び記憶媒体	2017年12月28日
特開 2017-228557	搬送装置および搬送方法、ならびに検査システム	2017年12月28日
特開 2017-228558	プラズマ処理装置、及び波形補正方法	2017年12月28日
特開 2017-228579	被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム	2017年12月28日
特開 2017-228580	半導体装置の製造方法及び半導体製造装置	2017年12月28日
特開 2017-228613	基板処理装置、基板処理装置の洗浄方法及び記憶媒体	2017年12月28日
特開 2017-228633	補強構造体、真空チャンバー、およびプラズマ処理装置	2017年12月28日
特開 2017-228690	エッチング処理方法	2017年12月28日
特開 2017-228696	基板載置装置及び基板載置方法	2017年12月28日

593 件中 1-15 件を表示

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2017-226863 2017-226894 2017-226898 2017-228230 2017-228354 2017-228395 2017-228459 2017-228557 2017-228558 2017-228579 2017-228580 2017-228613 2017-228633 2017-228690 2017-228696

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