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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2021年4月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-258270 | 基板載置台及び基板処理装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-257977 | プラズマ処理装置及びプローブ装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258244 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-257189 | 温度測定装置及び処理装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258268 | 基板載置台及び基板処理装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258383 | 成膜方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258389 | クーリング機構及び処理システム | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258307 | プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258098 | プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-258260 | 基板搬送方法及び基板搬送装置 | 2013年12月26日 | |
| 特表 2013-546182 | マイクロ波プラズマを用いる誘電膜堆積方法 | 2013年12月26日 | 共同出願 |
| 特開 2013-258409 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2013年12月26日 | |
| 特開 2013-254906 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年12月19日 | |
| 特開 2013-254796 | 半導体製造装置のメンテナンス機器及び半導体製造装置のメンテナンス方法 | 2013年12月19日 | |
| 特開 2013-254812 | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 | 2013年12月19日 |
712 件中 1-15 件を表示
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2013-258270 2013-257977 2013-258244 2013-257189 2013-258268 2013-258383 2013-258389 2013-258307 2013-258098 2013-258260 2013-546182 2013-258409 2013-254906 2013-254796 2013-254812
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