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東京エレクトロン株式会社

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公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-258383	成膜方法	2013年12月26日
特開 2013-258268	基板載置台及び基板処理装置	2013年12月26日
特開 2013-258270	基板載置台及び基板処理装置	2013年12月26日
特開 2013-258409	誘導結合プラズマ処理装置	2013年12月26日
特表 2013-546182	マイクロ波プラズマを用いる誘電膜堆積方法	2013年12月26日	共同出願
特開 2013-258389	クーリング機構及び処理システム	2013年12月26日
特開 2013-258307	プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法	2013年12月26日
特開 2013-257189	温度測定装置及び処理装置	2013年12月26日
特開 2013-258244	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2013年12月26日
特開 2013-257977	プラズマ処理装置及びプローブ装置	2013年12月26日
特開 2013-258098	プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法	2013年12月26日
特開 2013-258260	基板搬送方法及び基板搬送装置	2013年12月26日
特開 2013-254778	縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置の運転方法	2013年12月19日
特開 2013-254959	液処理装置および液処理方法	2013年12月19日
特開 2013-254812	ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置	2013年12月19日

712 件中 1-15 件を表示

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2013-258383 2013-258268 2013-258270 2013-258409 2013-546182 2013-258389 2013-258307 2013-257189 2013-258244 2013-257977 2013-258098 2013-258260 2013-254778 2013-254959 2013-254812

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