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東京エレクトロン株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
（
2022年：第25位 842件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-183485 | 基板処理装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-183583 | プラズマ処理装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-183584 | 高周波電源、プラズマ処理装置、及び整合方法 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-183625 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-183724 | 真空加熱処理装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-183725 | 成膜装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-184466 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-184575 | 基板搬送装置及び基板処理システム | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-184648 | 接合システム | 2023年12月28日 | |
| 特開 2023-182324 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-182828 | プラズマ処理装置 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-181822 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2023年12月25日 | |
| 特開 2023-180320 | プラズマ処理装置及び共振周波数測定方法 | 2023年12月21日 | |
| 特開 2023-180564 | プラズマ処理方法、および基板処理装置 | 2023年12月21日 | |
| 特開 2023-180573 | 基板処理装置、制御システム、および制御方法 | 2023年12月21日 |
725 件中 1-15 件を表示
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2023-183485 2023-183583 2023-183584 2023-183625 2023-183724 2023-183725 2023-184466 2023-184575 2023-184648 2023-182324 2023-182828 2023-181822 2023-180320 2023-180564 2023-180573
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