特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第43位　773件（2019年：第58位　660件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第54位　436件（2019年：第58位　415件）

（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2019-117043	液供給装置及び液供給方法	2020年12月24日
再表 2019-124119	基板支持部材、基板処理装置及び基板搬送装置	2020年12月24日
再表 2019-131226	基板処理装置、基板処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2020年12月24日
再表 2019-131608	データ処理装置、データ処理方法及びプログラム	2020年12月24日
特開 2020-205273	検査装置、減圧乾燥装置および減圧乾燥装置の制御方法	2020年12月24日
特開 2020-205304	エッチング方法およびエッチング装置	2020年12月24日
特開 2020-205317	基板処理装置及び基板処理方法	2020年12月24日
特開 2020-205334	基板処理方法および基板処理装置	2020年12月24日
特開 2020-205361	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2020年12月24日
特開 2020-205379	載置台及びプラズマ処理装置	2020年12月24日
特開 2020-205382	基板処理装置、基板処理システム及び基板搬送方法	2020年12月24日
特開 2020-205444	プラズマ処理装置及び制御方法	2020年12月24日
特開 2020-205457	熱処理装置及び温度制御方法	2020年12月24日
再表 2019-106979	処理装置	2020年12月17日
再表 2019-124032	基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2020年12月17日

777 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-117043 2019-124119 2019-131226 2019-131608 2020-205273 2020-205304 2020-205317 2020-205334 2020-205361 2020-205379 2020-205382 2020-205444 2020-205457 2019-106979 2019-124032

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数