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東京エレクトロン株式会社

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　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第56位　677件（2014年：第58位　686件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第51位　433件（2014年：第48位　694件）

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
再表 2013-161768	成膜方法、成膜装置、及び、成膜システム	2015年12月24日
再表 2013-161769	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2015年12月24日
再表 2013-164940	被処理基体にドーパントを注入する方法、及びプラズマドーピング装置	2015年12月24日
特表 2015-537372	基板を清浄化するためのプロセスガスの生成	2015年12月24日
特開 2015-233064	エッチング処理方法及びベベルエッチング装置	2015年12月24日
特開 2015-229776	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2015年12月21日
特開 2015-230899	送液システムの洗浄方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2015年12月21日
特開 2015-230905	剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2015年12月21日
特開 2015-230939	冷却処理装置、及び、冷却処理装置の運用方法	2015年12月21日
特開 2015-230948	成膜装置、成膜方法、記憶媒体	2015年12月21日
特開 2015-230957	基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置	2015年12月21日
特開 2015-230988	プラズマ処理装置およびクリーニング方法	2015年12月21日
特開 2015-231030	基板液処理装置	2015年12月21日
特開 2015-231043	改質処理方法及び半導体装置の製造方法	2015年12月21日
特開 2015-231050	上部誘電石英板及びスロットアンテナの基本概念	2015年12月21日

688 件中 1-15 件を表示

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2013-161768 2013-161769 2013-164940 2015-537372 2015-233064 2015-229776 2015-230899 2015-230905 2015-230939 2015-230948 2015-230957 2015-230988 2015-231030 2015-231043 2015-231050

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