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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2013-161768 | 成膜方法、成膜装置、及び、成膜システム | 2015年12月24日 | |
| 再表 2013-161769 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2015年12月24日 | |
| 再表 2013-164940 | 被処理基体にドーパントを注入する方法、及びプラズマドーピング装置 | 2015年12月24日 | |
| 特表 2015-537372 | 基板を清浄化するためのプロセスガスの生成 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-233064 | エッチング処理方法及びベベルエッチング装置 | 2015年12月24日 | |
| 特開 2015-229776 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230899 | 送液システムの洗浄方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230905 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230939 | 冷却処理装置、及び、冷却処理装置の運用方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230948 | 成膜装置、成膜方法、記憶媒体 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230957 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230988 | プラズマ処理装置およびクリーニング方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-231030 | 基板液処理装置 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-231043 | 改質処理方法及び半導体装置の製造方法 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-231050 | 上部誘電石英板及びスロットアンテナの基本概念 | 2015年12月21日 |
688 件中 1-15 件を表示
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2013-161768 2013-161769 2013-164940 2015-537372 2015-233064 2015-229776 2015-230899 2015-230905 2015-230939 2015-230948 2015-230957 2015-230988 2015-231030 2015-231043 2015-231050
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