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東京エレクトロン株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第67位 588件 上昇2017年:第83位 585件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第50位 503件 上昇2017年:第66位 431件)

(ランキング更新日:2021年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2017-158955 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2018年12月27日
再表 2017-159401 液体を用いて基板に対するチップ部品のアライメントを行う方法 2018年12月27日
特開 2018-202361 プラズマ溶射ヘッド、プラズマ溶射装置及びプラズマ溶射方法 2018年12月27日
特開 2018-204810 減圧乾燥装置 2018年12月27日
特開 2018-206796 基板処理方法 2018年12月27日
特開 2018-206803 プラズマ処理装置の静電チャックを運用する方法 2018年12月27日
特開 2018-206804 静電チャック及びプラズマ処理装置 2018年12月27日
特開 2018-206805 プラズマ処理方法 2018年12月27日
特開 2018-206806 ステージ及びプラズマ処理装置 2018年12月27日
特開 2018-206876 基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体 2018年12月27日
特開 2018-206913 部材及びプラズマ処理装置 2018年12月27日
特開 2018-206935 プラズマ処理装置、静電吸着方法および静電吸着プログラム 2018年12月27日
特開 2018-206936 基板処理システム、基板処理方法 2018年12月27日
特開 2018-206937 エッチング方法およびエッチング装置 2018年12月27日
特開 2018-206948 検査装置、検査システム、および位置合わせ方法 2018年12月27日

591 件中 1-15 件を表示

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2017-158955 2017-159401 2018-202361 2018-204810 2018-206796 2018-206803 2018-206804 2018-206805 2018-206806 2018-206876 2018-206913 2018-206935 2018-206936 2018-206937 2018-206948

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