特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-536667	プラズマ処理の方法及び装置	2021年12月27日
特表 2021-536674	モノリシック集積型３次元ＣＭＯＳロジック及びメモリを製造するためのアーキテクチャ設計及びプロセス	2021年12月27日
特表 2021-536675	３Ｄロジック及びメモリのための電力分配ネットワーク	2021年12月27日
特開 2021-194590	液排出装置及び液排出方法	2021年12月27日
特開 2021-194765	締結管理装置および締結管理方法	2021年12月27日
特開 2021-195580	成膜装置および成膜方法	2021年12月27日
特開 2021-195594	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年12月27日
特開 2021-195595	シャワープレート及び成膜装置	2021年12月27日
特開 2021-195609	成膜方法及び成膜装置	2021年12月27日
特開 2021-196218	器具、及び器具を用いて視認する方法	2021年12月27日
特開 2021-197244	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2021年12月27日
特開 2021-197378	エッチング方法及び基板処理装置	2021年12月27日
特開 2021-197405	基板処理装置、及び基板処理方法	2021年12月27日
特開 2021-197406	載置台、基板処理装置及び基板処理方法	2021年12月27日
特開 2021-197449	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2021年12月27日

882 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-536667 2021-536674 2021-536675 2021-194590 2021-194765 2021-195580 2021-195594 2021-195595 2021-195609 2021-196218 2021-197244 2021-197378 2021-197405 2021-197406 2021-197449

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数