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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
(2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
(2020年:第54位 436件)
(ランキング更新日:2025年5月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-536667 | プラズマ処理の方法及び装置 | 2021年12月27日 | |
特表 2021-536674 | モノリシック集積型3次元CMOSロジック及びメモリを製造するためのアーキテクチャ設計及びプロセス | 2021年12月27日 | |
特表 2021-536675 | 3Dロジック及びメモリのための電力分配ネットワーク | 2021年12月27日 | |
特開 2021-194590 | 液排出装置及び液排出方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-194765 | 締結管理装置および締結管理方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195580 | 成膜装置および成膜方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195594 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195595 | シャワープレート及び成膜装置 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-195609 | 成膜方法及び成膜装置 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-196218 | 器具、及び器具を用いて視認する方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197244 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197378 | エッチング方法及び基板処理装置 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197405 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197406 | 載置台、基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-197449 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年12月27日 |
882 件中 1-15 件を表示
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2021-536667 2021-536674 2021-536675 2021-194590 2021-194765 2021-195580 2021-195594 2021-195595 2021-195609 2021-196218 2021-197244 2021-197378 2021-197405 2021-197406 2021-197449
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5月16日(金) - 東京 千代田区
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