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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-199508 | ウエハ検査装置及びプローブカードのプリヒート方法 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-197476 | ゲートバルブ装置及び基板処理装置並びにその基板処理方法 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199413 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199318 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199535 | 基板温度制御方法及びプラズマ処理装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199377 | 基板処理方法及び記憶媒体 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199329 | エッチング方法、インプリント装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-196609 | 塗布処理方法および塗布処理装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199376 | プラズマ処理装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199282 | 基板保持装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199333 | 基板処理方法 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-199306 | 成膜方法及び成膜装置 | 2012年10月18日 | |
| 特開 2012-195578 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 | 2012年10月11日 | |
| 特開 2012-194059 | 画像作成方法、基板検査方法、その画像作成方法又はその基板検査方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板検査装置 | 2012年10月11日 | |
| 特開 2012-194188 | プローブ支持板の製造方法、コンピュータ記憶媒体及びプローブ支持板 | 2012年10月11日 |
714 件中 166-180 件を表示
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2012-199508 2012-197476 2012-199413 2012-199318 2012-199535 2012-199377 2012-199329 2012-196609 2012-199376 2012-199282 2012-199333 2012-199306 2012-195578 2012-194059 2012-194188
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