特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2012-522307	ツール性能劣化およびミスマッチの検出のための方法およびシステム	2012年 9月20日
特開 2012-182507	基板洗浄装置	2012年 9月20日
特開 2012-182474	半導体装置の製造方法及び記憶媒体	2012年 9月20日
特開 2012-182393	基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置	2012年 9月20日
特表 2012-522379	低減された等価酸化膜厚を有する高誘電率ゲートスタックの形成方法	2012年 9月20日
特開 2012-178613	成膜装置および成膜方法	2012年 9月13日	共同出願
特開 2012-178378	半導体装置の製造方法	2012年 9月13日
特開 2012-176856	カーボンナノチューブの形成方法、その前処理方法、電子放出素子及び照明装置	2012年 9月13日
特開 2012-176855	カーボンナノチューブの形成方法及び前処理方法	2012年 9月13日
特開 2012-178572	アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置	2012年 9月13日
特表 2012-521659	プラズマエッチング法	2012年 9月13日
再表 2010-103953	基板処理装置、トラップ装置、基板処理装置の制御方法及びトラップ装置の制御方法	2012年 9月13日
特開 2012-178527	載置装置	2012年 9月13日
特開 2012-178576	熱処理装置及び記憶媒体	2012年 9月13日
特開 2012-178544	液処理装置および液処理方法	2012年 9月13日

714 件中 241-255 件を表示

... 17

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-522307 2012-182507 2012-182474 2012-182393 2012-522379 2012-178613 2012-178378 2012-176856 2012-176855 2012-178572 2012-521659 2010-103953 2012-178527 2012-178576 2012-178544

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数