特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-68045	薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、薄膜形成装置及びプログラム	2014年 4月17日
特開 2014-67983	熱処理装置	2014年 4月17日
特開 2014-67940	基板処理システム	2014年 4月17日
特開 2014-67833	基板処理装置	2014年 4月17日
特開 2014-67827	基板処理装置及びガス供給装置	2014年 4月17日
特開 2014-62990	パターン形成方法	2014年 4月10日	共同出願
特開 2014-62312	マンガンシリケート膜の形成方法、処理システム、半導体デバイスの製造方法および半導体デバイス	2014年 4月10日
特開 2014-64039	成膜方法および成膜装置	2014年 4月10日
特開 2014-62281	金属膜の成膜方法	2014年 4月10日
特開 2014-63908	基板処理システム	2014年 4月10日
特開 2014-64032	液処理方法、液処理装置および記憶媒体	2014年 4月10日
特開 2014-63972	プラズマエッチング装置及び制御方法	2014年 4月10日
特開 2014-63959	縦型熱処理装置	2014年 4月10日
特開 2014-63918	ガス供給方法及びプラズマ処理装置	2014年 4月10日
特開 2014-63910	液処理方法、液処理装置及び液処理用記録媒体	2014年 4月10日

685 件中 466-480 件を表示

... 32

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-68045 2014-67983 2014-67940 2014-67833 2014-67827 2014-62990 2014-62312 2014-64039 2014-62281 2014-63908 2014-64032 2014-63972 2014-63959 2014-63918 2014-63910

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数