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東京エレクトロン株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第58位 686件 上昇2013年:第60位 712件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第48位 694件 下降2013年:第45位 796件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-22261 プラズマ処理装置用部品及びプラズマ処理装置 2014年 2月 3日
特開 2014-19942 成膜装置 2014年 2月 3日
特開 2014-19912 タングステン膜の成膜方法 2014年 2月 3日
特開 2014-22552 半導体ウエハの外観検査装置及び塗布現像装置 2014年 2月 3日
特開 2014-21828 温度制御システムへの温調流体供給方法及び記憶媒体 2014年 2月 3日
特開 2014-22664 基板洗浄装置および基板洗浄方法 2014年 2月 3日
特開 2014-22655 エッチング方法 2014年 2月 3日
特開 2014-22578 処理液供給装置及び処理液供給方法 2014年 2月 3日
特開 2014-22558 基板処理装置および基板処理方法 2014年 2月 3日
特開 2014-22520 基板処理装置、流体の供給方法及び記憶媒体 2014年 2月 3日
特開 2014-22518 下部電極、及びプラズマ処理装置 2014年 2月 3日
特開 2014-22517 上部電極、及びプラズマ処理装置 2014年 2月 3日
特開 2014-22497 熱処理装置、熱処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2014年 2月 3日
特開 2014-22461 洗浄装置、洗浄方法および記憶媒体 2014年 2月 3日
特開 2014-14784 ノズル洗浄装置、塗布処理装置、ノズル洗浄方法、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2014年 1月30日

685 件中 601-615 件を表示

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2014-22261 2014-19942 2014-19912 2014-22552 2014-21828 2014-22664 2014-22655 2014-22578 2014-22558 2014-22520 2014-22518 2014-22517 2014-22497 2014-22461 2014-14784

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