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東京エレクトロン株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第58位 686件 上昇2013年:第60位 712件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第48位 694件 下降2013年:第45位 796件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-17393 液処理装置及び液処理方法並びに液処理用記憶媒体 2014年 1月30日
特開 2014-17359 終点検出方法、プログラム及び基板処理装置 2014年 1月30日
特開 2014-17323 計測用基板、基板処理装置及び基板処理装置の運転方法 2014年 1月30日
特開 2014-17129 プラズマ処理装置 2014年 1月30日
特開 2014-17121 マイクロ波導入モジュールにおけるSパラメータ取得方法及び異常検知方法 2014年 1月30日
特開 2014-13804 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2014年 1月23日
特開 2014-13837 シリコン酸化膜の形成方法およびその形成装置 2014年 1月23日
特開 2014-12869 成膜方法及び成膜装置 2014年 1月23日
特開 2014-13581 生物学に基づく自律学習ツール 2014年 1月23日
特開 2014-14227 電源装置、マイクロ波処理装置、コンピュータプログラム及び制御方法 2014年 1月23日
特開 2014-13911 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 2014年 1月23日
特開 2014-13841 処理方法およびコンデショニング方法 2014年 1月23日
特開 2014-13834 ガスクラスター照射機構およびそれを用いた基板処理装置、ならびにガスクラスター照射方法 2014年 1月23日
特開 2014-11420 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置、基板処理装置及び記憶媒体 2014年 1月20日
特開 2014-8425 塗布装置およびノズル 2014年 1月20日

685 件中 631-645 件を表示

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2014-17393 2014-17359 2014-17323 2014-17129 2014-17121 2014-13804 2014-13837 2014-12869 2014-13581 2014-14227 2014-13911 2014-13841 2014-13834 2014-11420 2014-8425

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