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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件 (2013年:第60位 712件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件 (2013年:第45位 796件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-17393 | 液処理装置及び液処理方法並びに液処理用記憶媒体 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-17359 | 終点検出方法、プログラム及び基板処理装置 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-17323 | 計測用基板、基板処理装置及び基板処理装置の運転方法 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-17129 | プラズマ処理装置 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-17121 | マイクロ波導入モジュールにおけるSパラメータ取得方法及び異常検知方法 | 2014年 1月30日 | |
特開 2014-13804 | 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-13837 | シリコン酸化膜の形成方法およびその形成装置 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-12869 | 成膜方法及び成膜装置 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-13581 | 生物学に基づく自律学習ツール | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-14227 | 電源装置、マイクロ波処理装置、コンピュータプログラム及び制御方法 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-13911 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-13841 | 処理方法およびコンデショニング方法 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-13834 | ガスクラスター照射機構およびそれを用いた基板処理装置、ならびにガスクラスター照射方法 | 2014年 1月23日 | |
特開 2014-11420 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置、基板処理装置及び記憶媒体 | 2014年 1月20日 | |
特開 2014-8425 | 塗布装置およびノズル | 2014年 1月20日 |
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2014-17393 2014-17359 2014-17323 2014-17129 2014-17121 2014-13804 2014-13837 2014-12869 2014-13581 2014-14227 2014-13911 2014-13841 2014-13834 2014-11420 2014-8425
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12月10日(火) - 東京 港区
12月10日(火) -
12月10日(火) - 東京 港区
12月11日(水) - 東京 港区
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月11日(水) -
12月12日(木) -
12月12日(木) - 東京 港区
12月12日(木) - 東京 品川
ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
12月13日(金) - 東京 23区
12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
12月14日(土) -
12月10日(火) - 東京 港区
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12月17日(火) -
12月17日(火) -
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12月17日(火) -
12月18日(水) -
12月18日(水) -
12月18日(水) - 京都 京都市
12月18日(水) -
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12月18日(水) -
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