特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2012-225533	クリーンルームの除塵システム	2012年11月15日	共同出願
特開 2012-227531	反射装置、連通管、排気システム、該システムの洗浄方法、記憶媒体、及び基板処理装置	2012年11月15日
特開 2012-223824	チューブ挿入用工具	2012年11月15日
特開 2012-225532	クリーンルームの除塵装置	2012年11月15日	共同出願
特開 2012-227265	熱処理装置	2012年11月15日
特開 2012-227461	塗布装置、塗布方法及び記憶媒体	2012年11月15日
特表 2012-529007	プローブカード	2012年11月15日
特開 2012-227427	誘導結合プラズマ処理装置	2012年11月15日
再表 2010-140526	プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法	2012年11月15日
特開 2012-222237	液処理方法及び液処理装置	2012年11月12日
特開 2012-220896	周辺露光方法及び周辺露光装置	2012年11月12日
特開 2012-222238	基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム	2012年11月12日
特開 2012-222329	液処理方法及び液処理装置	2012年11月12日
特開 2012-222330	エッチング方法、エッチング装置および記憶媒体	2012年11月12日
特開 2012-222240	基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2012年11月12日

714 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-225533 2012-227531 2012-223824 2012-225532 2012-227265 2012-227461 2012-529007 2012-227427 2010-140526 2012-222237 2012-220896 2012-222238 2012-222329 2012-222330 2012-222240

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数