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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-227264 基板加熱装置、これを備える塗布現像装置、及び基板加熱方法 2012年11月15日
特開 2012-227428 誘導結合プラズマ処理装置 2012年11月15日
特開 2012-227427 誘導結合プラズマ処理装置 2012年11月15日
特開 2012-223824 チューブ挿入用工具 2012年11月15日
特開 2012-227461 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 2012年11月15日
特開 2012-227319 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、基板処理装置及びインプリントシステム 2012年11月15日
再表 2010-140526 プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法 2012年11月15日
特開 2012-225533 クリーンルームの除塵システム 2012年11月15日 共同出願
特開 2012-227392 ローディングユニット及び処理システム 2012年11月15日
特開 2012-222195 基板搬送方法、基板搬送装置、及び塗布現像装置 2012年11月12日
特開 2012-222329 液処理方法及び液処理装置 2012年11月12日
特開 2012-222238 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム 2012年11月12日
特開 2012-222237 液処理方法及び液処理装置 2012年11月12日
特開 2012-222330 エッチング方法、エッチング装置および記憶媒体 2012年11月12日
特開 2012-222240 基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2012年11月12日

714 件中 61-75 件を表示

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2012-227264 2012-227428 2012-227427 2012-223824 2012-227461 2012-227319 2010-140526 2012-225533 2012-227392 2012-222195 2012-222329 2012-222238 2012-222237 2012-222330 2012-222240

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