特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2012-220359	基板処理装置に用いられるプロセスモニター装置、プロセスモニター方法、および基板処理装置	2012年11月12日
特開 2012-222086	基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体	2012年11月12日
特開 2012-222240	基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2012年11月12日
特開 2012-220896	周辺露光方法及び周辺露光装置	2012年11月12日
特開 2012-222195	基板搬送方法、基板搬送装置、及び塗布現像装置	2012年11月12日
特開 2012-222238	基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム	2012年11月12日
特開 2012-222253	基板洗浄装置及び基板洗浄方法並びに基板洗浄プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2012年11月12日
特開 2012-222254	基板洗浄ノズル及び基板洗浄装置並びに基板洗浄方法	2012年11月12日
特開 2012-222237	液処理方法及び液処理装置	2012年11月12日
特開 2012-216639	プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体	2012年11月 8日
特開 2012-216745	プラズマ処理装置およびマイクロ波導入装置	2012年11月 8日
特開 2012-216823	ガス吐出機能付電極およびプラズマ処理装置	2012年11月 8日
特開 2012-216752	ロードロックモジュール、ウエハ加工処理システム及びウエハの加工処理方法	2012年11月 8日
特開 2012-216765	Ｃｕ配線の形成方法および成膜システム	2012年11月 8日
特開 2012-216633	プラズマ窒化処理方法、プラズマ窒化処理装置および半導体装置の製造方法	2012年11月 8日

714 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2012-220359 2012-222086 2012-222240 2012-220896 2012-222195 2012-222238 2012-222253 2012-222254 2012-222237 2012-216639 2012-216745 2012-216823 2012-216752 2012-216765 2012-216633

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数