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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-220896 周辺露光方法及び周辺露光装置 2012年11月12日
特開 2012-222086 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 2012年11月12日
特開 2012-220359 基板処理装置に用いられるプロセスモニター装置、プロセスモニター方法、および基板処理装置 2012年11月12日
特開 2012-222254 基板洗浄ノズル及び基板洗浄装置並びに基板洗浄方法 2012年11月12日
特開 2012-222237 液処理方法及び液処理装置 2012年11月12日
特開 2012-222098 ローディングユニット及び処理システム 2012年11月12日
特開 2012-222295 プラズマ処理装置のクリーニング方法及びプラズマ処理方法 2012年11月12日
特開 2012-222238 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム 2012年11月12日
特開 2012-222253 基板洗浄装置及び基板洗浄方法並びに基板洗浄プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2012年11月12日
特開 2012-216632 プラズマ処理方法、及び素子分離方法 2012年11月 8日
特開 2012-216629 プラズマ処理装置におけるマイクロ波の実効パワーのずれ量検出方法及びそのプラズマ処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216630 コンディショニング方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及び基板処理装置 2012年11月 8日
特開 2012-216667 プラズマ処理方法 2012年11月 8日
特開 2012-216525 プラズマ処理装置及びプラズマ発生用アンテナ 2012年11月 8日
特開 2012-216636 基板洗浄装置及び真空処理システム 2012年11月 8日 共同出願

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2012-220896 2012-222086 2012-220359 2012-222254 2012-222237 2012-222098 2012-222295 2012-222238 2012-222253 2012-216632 2012-216629 2012-216630 2012-216667 2012-216525 2012-216636

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