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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件 (2011年:第62位 621件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件 (2011年:第41位 739件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-212819 | 縦型バッチ式成膜装置 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212746 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-210619 | 濾過用フィルター及びその製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212721 | シリコン酸化物膜及びシリコン窒化物膜の積層方法、並びに成膜装置及び半導体装置の製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212887 | レジストの光学特性を変化させる方法及び装置 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-209354 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-209483 | 成膜方法およびリスパッタ方法、ならびに成膜装置 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-208098 | 物性測定装置及び物性測定方法 | 2012年10月25日 | 共同出願 |
特開 2012-209393 | クリーニング方法及び成膜方法 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-208050 | 測定装置及びプラズマ処理装置 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-209359 | プラズマ処理装置 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-209282 | ローディングユニット及び処理システム | 2012年10月25日 | |
特開 2012-208483 | 局所露光方法及び局所露光装置 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-209424 | 半導体装置の製造方法 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-209394 | 成膜装置及び成膜方法 | 2012年10月25日 |
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2012-212819 2012-212746 2012-210619 2012-212721 2012-212887 2012-209354 2012-209483 2012-208098 2012-209393 2012-208050 2012-209359 2012-209282 2012-208483 2012-209424 2012-209394
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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