特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-192404	プローブ装置	2014年10月 6日
特開 2014-192525	多孔質有機シリカＬｏｗ−ｋ材料をエッチングする方法	2014年10月 6日
特開 2014-192372	マイクロ波加熱処理装置	2014年10月 6日
特開 2014-192218	ウエハ検査装置	2014年10月 6日
特開 2014-192244	搬送装置制御システム及び搬送装置のアクセス位置を調整する方法	2014年10月 6日
特開 2014-192285	プローブ装置	2014年10月 6日
特開 2014-192245	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2014年10月 6日
特開 2014-192356	被処理体の処理装置、及び、ティーチング方法	2014年10月 6日
特開 2014-192405	プローブ装置	2014年10月 6日
特開 2014-185353	ルテニウム膜の形成方法および記憶媒体	2014年10月 2日
特開 2014-187231	プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置	2014年10月 2日	共同出願
特開 2014-186994	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2014年10月 2日
特開 2014-187274	マイクロ波加熱処理方法	2014年10月 2日
特開 2014-187402	プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法	2014年10月 2日
特開 2014-187346	焼結銀被覆膜の作製方法及び焼成装置及び半導体装置	2014年10月 2日

685 件中 121-135 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-192404 2014-192525 2014-192372 2014-192218 2014-192244 2014-192285 2014-192245 2014-192356 2014-192405 2014-185353 2014-187231 2014-186994 2014-187274 2014-187402 2014-187346

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数