ホーム > 特許ランキング > キヤノンアネルバ株式会社 > 2017年 > 特許一覧
キヤノンアネルバ株式会社
※ ログインすれば出願人(キヤノンアネルバ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第682位 50件
（
2016年：第1509位 16件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第842位 26件
（
2016年：第506位 54件）
（ランキング更新日：2025年3月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
特許 6084335
|
磁気抵抗素子の製造方法 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6082165
|
金属膜および金属膜の成膜方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6077133
|
磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6078610
|
磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6067877
|
基板処理装置および方法 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6068662
|
真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6068738
|
加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6063035
|
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6058656
|
スパッタリング装置およびスパッタリング成膜方法 | 2017年 1月11日 | |
| 特許 6059195
|
成膜装置 | 2017年 1月11日 | |
| 特許 6059335
|
イオンビーム処理方法、およびイオンビーム処理装置 | 2017年 1月11日 |
26 件中 16-26 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー （をクリックすると全て選択します）
6084335 6082165 6077133 6078610 6067877 6068662 6068738 6063035 6058656 6059195 6059335
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノンアネルバ株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月19日(水) -
3月21日(金) -
3月21日(金) -
3月21日(金) - 石川 金沢市
3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒195-0074 東京都町田市山崎町1089-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区北浜３丁目５－１９ 淀屋橋ホワイトビル２階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ＡＢＣビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
