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キヤノンアネルバ株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第682位 50件
（
2016年：第1509位 16件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第842位 26件
（
2016年：第506位 54件）
（ランキング更新日：2025年3月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノンアネルバ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6084335 | 磁気抵抗素子の製造方法 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6082165 | 金属膜および金属膜の成膜方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6077133 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6078610 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6067877 | 基板処理装置および方法 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6068662 | 真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6068738 | 加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法 | 2017年 1月25日 | |
| 特許 6063035 | 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6058656 | スパッタリング装置およびスパッタリング成膜方法 | 2017年 1月11日 | |
| 特許 6059195 | 成膜装置 | 2017年 1月11日 | |
| 特許 6059335 | イオンビーム処理方法、およびイオンビーム処理装置 | 2017年 1月11日 |
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6084335 6082165 6077133 6078610 6067877 6068662 6068738 6063035 6058656 6059195 6059335
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