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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第111位 387件 (2017年:第101位 511件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第71位 392件 (2017年:第76位 386件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6420706 | 太陽電池用パッシベーション膜形成方法及び太陽電池用パッシベーション膜形成装置 | 2018年11月 7日 | |
特許 6413878 | シリコーン粘着剤用剥離剤組成物及び剥離フィルム | 2018年10月31日 | |
特許 6413915 | 半導体封止用樹脂組成物及びその硬化物を備えた半導体装置 | 2018年10月31日 | |
特許 6416140 | 多結晶シリコン棒および多結晶シリコン棒の選別方法 | 2018年10月31日 | |
特許 6409695 | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6409704 | シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 | 2018年10月24日 | |
特許 6411952 | 熱分解窒化ほう素容器の製造方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6411967 | レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6412853 | フィルム成型用組成物 | 2018年10月24日 | |
特許 6413007 | 非水電解質二次電池用負極材の製造方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6404757 | レジスト下層膜材料用重合体、レジスト下層膜材料、及びパターン形成方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6404787 | ウエハ加工体、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6404799 | レジスト下層膜材料及びパターン形成方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6405285 | 太陽電池の製造方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6405292 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | 2018年10月17日 |
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6420706 6413878 6413915 6416140 6409695 6409704 6411952 6411967 6412853 6413007 6404757 6404787 6404799 6405285 6405292
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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