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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第172位 256件 (2017年:第207位 254件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第188位 158件 (2017年:第227位 136件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2018-536986 | 基板キャリアシステム | 2018年12月13日 | |
特表 2018-536990 | 底部処理 | 2018年12月13日 | |
特開 2018-198072 | 動径基底関数ネットワークおよび超立方体を使用した半導体処理機器における偏位の分類 | 2018年12月13日 | |
特表 2018-536251 | 基板処理のためのRFパルス反射の低減 | 2018年12月 6日 | |
特表 2018-536287 | 堆積された表面フィーチャを有する基板支持アセンブリ | 2018年12月 6日 | |
特開 2018-195830 | 裏面パッシベーションのための装置及び方法 | 2018年12月 6日 | |
特表 2018-535107 | CMPプロセスのトラッキングデータを3D印刷されたCMP消耗材と組み合わせるための技法 | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535114 | 付加製造システムのための調節可能なZ軸プリントヘッドモジュール | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535310 | 付加製造システムのためのプリントヘッドモジュール | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535324 | VHF−RF PVDチャンバで使用するためのプレコートされたシールド | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535504 | 近似鋸歯状波パルス生成によるRF電力供給 | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535505 | 基板処理のためのRF電力供給制御 | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535545 | 処理のためのウエハ加熱用ダイオードレーザー | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535548 | 電子デバイス製造において基板を搬送するためのロボットアセンブリ、基板処理装置、及び方法 | 2018年11月29日 | |
特表 2018-535550 | 基板を真空処理モジュール内へロードする装置及び方法、真空処理モジュール内の真空堆積プロセスのために基板を処理する装置及び方法、並びに基板を真空処理するためのシステム | 2018年11月29日 |
256 件中 16-30 件を表示
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2018-536986 2018-536990 2018-198072 2018-536251 2018-536287 2018-195830 2018-535107 2018-535114 2018-535310 2018-535324 2018-535504 2018-535505 2018-535545 2018-535548 2018-535550
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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