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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2018年 出願公開件数ランキング    第172位 256件 上昇2017年:第207位 254件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第188位 158件 上昇2017年:第227位 136件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2018-536986 基板キャリアシステム 2018年12月13日
特表 2018-536990 底部処理 2018年12月13日
特開 2018-198072 動径基底関数ネットワークおよび超立方体を使用した半導体処理機器における偏位の分類 2018年12月13日
特表 2018-536251 基板処理のためのRFパルス反射の低減 2018年12月 6日
特表 2018-536287 堆積された表面フィーチャを有する基板支持アセンブリ 2018年12月 6日
特開 2018-195830 裏面パッシベーションのための装置及び方法 2018年12月 6日
特表 2018-535107 CMPプロセスのトラッキングデータを3D印刷されたCMP消耗材と組み合わせるための技法 2018年11月29日
特表 2018-535114 付加製造システムのための調節可能なZ軸プリントヘッドモジュール 2018年11月29日
特表 2018-535310 付加製造システムのためのプリントヘッドモジュール 2018年11月29日
特表 2018-535324 VHF−RF PVDチャンバで使用するためのプレコートされたシールド 2018年11月29日
特表 2018-535504 近似鋸歯状波パルス生成によるRF電力供給 2018年11月29日
特表 2018-535505 基板処理のためのRF電力供給制御 2018年11月29日
特表 2018-535545 処理のためのウエハ加熱用ダイオードレーザー 2018年11月29日
特表 2018-535548 電子デバイス製造において基板を搬送するためのロボットアセンブリ、基板処理装置、及び方法 2018年11月29日
特表 2018-535550 基板を真空処理モジュール内へロードする装置及び方法、真空処理モジュール内の真空堆積プロセスのために基板を処理する装置及び方法、並びに基板を真空処理するためのシステム 2018年11月29日

256 件中 16-30 件を表示

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2018-536986 2018-536990 2018-198072 2018-536251 2018-536287 2018-195830 2018-535107 2018-535114 2018-535310 2018-535324 2018-535504 2018-535505 2018-535545 2018-535548 2018-535550

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