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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-540892	堆積アレンジメント、堆積装置、及びこれらの操作方法	2016年12月28日
特表 2016-540932	複数チャンバ用のシステムのシングルポイント接続を可能にする、有害ガスのガスラインのコンパクトな配管	2016年12月28日
特表 2016-541044	タッチパネル用透明体の製作方法及びタッチスクリーンパネル用透明体を製作するシステム	2016年12月28日
特表 2016-541116	静電チャック表面向けのパッド設計	2016年12月28日
特表 2016-541117	熱エネルギー伝達低減のための基板キャリア	2016年12月28日
特表 2016-541120	損傷を受けた低誘電率膜のポア封止のためのＵＶ支援光化学気相堆積	2016年12月28日
特表 2016-540115	物理的気相堆積チャンバで利用される双極性コリメータ	2016年12月22日
特表 2016-540368	シームレスのコバルト間隙充填を可能にする方法	2016年12月22日
特表 2016-540383	予測フィルタを用いた基板研磨中の研磨速度の調整	2016年12月22日
特表 2016-540386	レーザスクライブ及びプラズマエッチングによるウエハダイシング処理のためのスクリーン印刷マスク	2016年12月22日
特開 2016-216825	損耗インジケータを有するチャンバ構成要素	2016年12月22日
特表 2016-539250	プラズマ火炎熱処理を用いたプラズマ溶射コーティングの強化	2016年12月15日
特表 2016-539489	集積静電チャックを備えた基板キャリア	2016年12月15日
特表 2016-539490	チャンバポートのためのガス装置、システム、及び方法	2016年12月15日
特表 2016-539497	マスクレスハイブリッドレーザスクライビング及びプラズマエッチングウエハダイシング処理	2016年12月15日

217 件中 1-15 件を表示

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2016-540892 2016-540932 2016-541044 2016-541116 2016-541117 2016-541120 2016-540115 2016-540368 2016-540383 2016-540386 2016-216825 2016-539250 2016-539489 2016-539490 2016-539497

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