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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-205422	半導体処理チャンバマルチステージミキシング装置	2020年12月24日
特開 2020-205429	表面ブロッキング化学作用を用いた薄膜誘電体の選択的堆積	2020年12月24日
特開 2020-205431	改良された半導体エッチングおよび部品保護のためのシステムおよび方法	2020年12月24日
特開 2020-205434	チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計	2020年12月24日
特表 2020-536750	基板内のポア形成	2020年12月17日
特表 2020-536768	付加製造のための選択的な粉末供給	2020年12月17日
特表 2020-537037	金属膜の選択的堆積のための方法及び前駆体	2020年12月17日
特表 2020-537041	バッフルを備えたガスインジェクタ	2020年12月17日
特表 2020-537336	無損傷基板処理のための静電チャック	2020年12月17日
特表 2020-537351	３Ｄ　ｎａｎｄを拡張可能にするための多層積層体	2020年12月17日
特表 2020-537352	疎水性静電チャック	2020年12月17日
特表 2020-537356	デュアルロードロック構成による高温加熱支持ペデスタル	2020年12月17日
特表 2020-537359	金属堆積用の核生成層としての共形ドープアモルファスシリコン	2020年12月17日
特表 2020-536373	デュアルポート遠隔プラズマクリーン分離バルブ	2020年12月10日
特表 2020-536374	閉じ機構式真空チャンバ用分離デバイス及びサブシステム	2020年12月10日

312 件中 1-15 件を表示

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2020-205422 2020-205429 2020-205431 2020-205434 2020-536750 2020-536768 2020-537037 2020-537041 2020-537336 2020-537351 2020-537352 2020-537356 2020-537359 2020-536373 2020-536374

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