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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2020年 出願公開件数ランキング    第138位 311件 上昇2019年:第141位 330件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第136位 210件 上昇2019年:第156位 176件)

(ランキング更新日:2021年9月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2020-205422 半導体処理チャンバマルチステージミキシング装置 2020年12月24日
特開 2020-205429 表面ブロッキング化学作用を用いた薄膜誘電体の選択的堆積 2020年12月24日
特開 2020-205431 改良された半導体エッチングおよび部品保護のためのシステムおよび方法 2020年12月24日
特開 2020-205434 チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計 2020年12月24日
特表 2020-536750 基板内のポア形成 2020年12月17日
特表 2020-536768 付加製造のための選択的な粉末供給 2020年12月17日
特表 2020-537037 金属膜の選択的堆積のための方法及び前駆体 2020年12月17日
特表 2020-537041 バッフルを備えたガスインジェクタ 2020年12月17日
特表 2020-537336 無損傷基板処理のための静電チャック 2020年12月17日
特表 2020-537351 3D nandを拡張可能にするための多層積層体 2020年12月17日
特表 2020-537352 疎水性静電チャック 2020年12月17日
特表 2020-537356 デュアルロードロック構成による高温加熱支持ペデスタル 2020年12月17日
特表 2020-537359 金属堆積用の核生成層としての共形ドープアモルファスシリコン 2020年12月17日
特表 2020-536373 デュアルポート遠隔プラズマクリーン分離バルブ 2020年12月10日
特表 2020-536374 閉じ機構式真空チャンバ用分離デバイス及びサブシステム 2020年12月10日

312 件中 1-15 件を表示

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2020-205422 2020-205429 2020-205431 2020-205434 2020-536750 2020-536768 2020-537037 2020-537041 2020-537336 2020-537351 2020-537352 2020-537356 2020-537359 2020-536373 2020-536374

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