特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第122位　311件（2019年：第128位　330件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第136位　210件（2019年：第156位　176件）

（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-205434	チャンバ内部の流れを拡散させることによる低い粒子数及びより良好なウエハ品質のための効果的で新しい設計	2020年12月24日
特開 2020-205431	改良された半導体エッチングおよび部品保護のためのシステムおよび方法	2020年12月24日
特開 2020-205429	表面ブロッキング化学作用を用いた薄膜誘電体の選択的堆積	2020年12月24日
特開 2020-205422	半導体処理チャンバマルチステージミキシング装置	2020年12月24日
特表 2020-536750	基板内のポア形成	2020年12月17日
特表 2020-536768	付加製造のための選択的な粉末供給	2020年12月17日
特表 2020-537037	金属膜の選択的堆積のための方法及び前駆体	2020年12月17日
特表 2020-537041	バッフルを備えたガスインジェクタ	2020年12月17日
特表 2020-537336	無損傷基板処理のための静電チャック	2020年12月17日
特表 2020-537352	疎水性静電チャック	2020年12月17日
特表 2020-537351	３Ｄ　ｎａｎｄを拡張可能にするための多層積層体	2020年12月17日
特表 2020-537359	金属堆積用の核生成層としての共形ドープアモルファスシリコン	2020年12月17日
特表 2020-537356	デュアルロードロック構成による高温加熱支持ペデスタル	2020年12月17日
特表 2020-536373	デュアルポート遠隔プラズマクリーン分離バルブ	2020年12月10日
特表 2020-536374	閉じ機構式真空チャンバ用分離デバイス及びサブシステム	2020年12月10日

312 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-205434 2020-205431 2020-205429 2020-205422 2020-536750 2020-536768 2020-537037 2020-537041 2020-537336 2020-537352 2020-537351 2020-537359 2020-537356 2020-536373 2020-536374

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数