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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第60位 44件
（
2024年：第41位 605件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第34位 57件
（
2024年：第47位 555件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-15539 | 金属含有材料の高圧アニーリングプロセス | 2025年 1月30日 | |
| 特表 2025-502997 | 光学装置をハンドリングするための装置及び方法 | 2025年 1月30日 | |
| 特表 2025-503108 | 静電チャックセラミック表面処理のための方法 | 2025年 1月30日 | |
| 特開 2025-13777 | 機械学習を使用した基板プロファイル特性の決定 | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13812 | 選択的予洗浄のための高速応答二重ゾーンペダルアセンブリ | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13820 | ハイブリッド学習モデルを用いて性能を向上させた半導体処理ツール | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13874 | 保護金属オキシフッ化物コーティング | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13897 | 電流帰還出力ステージを有するパルス発生器を使用してイオンエネルギー分布を制御する方法 | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13944 | 干渉終点検出システムにおける内部反射の排除 | 2025年 1月28日 | |
| 特表 2025-502718 | 物理的現象に基づくモデルを使用した基板製造チャンバの診断方法 | 2025年 1月28日 | |
| 特表 2025-502750 | 多深度光学デバイスを形成するための方法 | 2025年 1月28日 | |
| 特表 2025-502783 | 異なる深さおよび形状の構造体を形成するためのリソグラフィシステムおよび関連方法 | 2025年 1月28日 | |
| 特表 2025-501829 | 温度作動バルブ及びその使用方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特表 2025-501850 | モデルに基づくパージガス流 | 2025年 1月24日 | |
| 特表 2025-502044 | ＳｉＯ／ＳｉＮ層交互エッチングプロセスのためのバイアス電圧調整アプローチ | 2025年 1月24日 |
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2025-15539 2025-502997 2025-503108 2025-13777 2025-13812 2025-13820 2025-13874 2025-13897 2025-13944 2025-502718 2025-502750 2025-502783 2025-501829 2025-501850 2025-502044
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