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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第53位 73件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第31位 105件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年3月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2025-28052 | 基板を処理する方法 | 2025年 2月28日 | |
特表 2025-505580 | 多孔質プラグを備えた静電チャック | 2025年 2月28日 | |
特開 2025-26837 | 平面光学装置用封入材料 | 2025年 2月26日 | |
特開 2025-26899 | 一体化された選択的単層ドーピングのための方法及び装置 | 2025年 2月26日 | |
特開 2025-26907 | 異種パッケージング統合のための再構成基板構造及び製造方法 | 2025年 2月26日 | |
特表 2025-505378 | 減圧中の石英で囲まれたヒーターの能動的冷却 | 2025年 2月26日 | |
特表 2025-505397 | ナノ結晶ダイヤモンド膜堆積のためのインシトゥ核形成 | 2025年 2月26日 | |
特表 2025-505413 | 製造機器のための診断による装置間マッチングおよび比較ドリルダウン分析方法 | 2025年 2月26日 | |
特開 2025-26457 | トレンチ構造内の選択的タングステン堆積 | 2025年 2月21日 | |
特表 2025-505275 | 裏側電力レールを形成するための方法および装置 | 2025年 2月21日 | |
特開 2025-23913 | 上流プロセス制御のためのエッチングフィードバック | 2025年 2月19日 | |
特開 2025-23944 | 独立したイオン源及びラジカル源を使用した基板処理のための装置及び技法 | 2025年 2月19日 | |
特開 2025-23948 | 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム | 2025年 2月19日 | |
特表 2025-504952 | プラズマエッチング用側壁パッシベーション | 2025年 2月19日 | |
特開 2025-22897 | 基板処理モジュールおよびワークピースを移動させる方法 | 2025年 2月14日 |
73 件中 1-15 件を表示
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2025-28052 2025-505580 2025-26837 2025-26899 2025-26907 2025-505378 2025-505397 2025-505413 2025-26457 2025-505275 2025-23913 2025-23944 2025-23948 2025-504952 2025-22897
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3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
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3月7日(金) - 東京 港区
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3月7日(金) -
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3月11日(火) - 大阪 大阪市
特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
3月12日(水) - 東京 港区
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