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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2026-50359	ゲートオールアラウンドトランジスタにおけるソースドレイン形成	2026年 3月19日
特表 2026-509518	パターン転写を向上させるための薄型ＣＡＲの下地層としてのＥＵＶ感応性金属酸化物材料	2026年 3月19日
特表 2026-509577	パッド式化学バフによるＣＭＰ後の洗浄のための圧縮ギャップ制御	2026年 3月19日
特表 2026-509321	改良された量子ドット色変換層の製造およびマイクロＬＥＤバックプレーンに対する一体化	2026年 3月18日
特開 2026-48632	処理システム内の圧力変化時における基板の汚染の防止	2026年 3月17日
特開 2026-48642	半導体製造のための環境効率監視・探査プラットフォーム	2026年 3月17日
特開 2026-48650	ターボバースト超高速レーザパルスによる材料処理	2026年 3月17日
特表 2026-508801	ゲートオールアラウンド型デバイスのための多層内部スペーサ	2026年 3月13日
特表 2026-508670	放射分離システム	2026年 3月11日
特開 2026-41740	プラズマ処理チャンバ内でフィーチャ帯電を低減させるための方法及び装置	2026年 3月10日
特表 2026-508042	プロセスチャンバのためのガス流改善	2026年 3月10日
特表 2026-508044	リアルタイム処理制御のためのインシトゥ反射光測定	2026年 3月10日
特表 2026-508055	ＱＤ色変換によるＵディスプレイ構造および製造方法	2026年 3月10日
特表 2026-508134	膜堆積及びエッジイオン注入を使用した基板の鞍型変形の緩和	2026年 3月10日
特表 2026-508218	完全対称性と高温表面を備えた堆積又はエッチングチャンバ	2026年 3月10日

160 件中 1-15 件を表示

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2026-50359 2026-509518 2026-509577 2026-509321 2026-48632 2026-48642 2026-48650 2026-508801 2026-508670 2026-41740 2026-508042 2026-508044 2026-508055 2026-508134 2026-508218

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