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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2026-507939	半導体急速熱処理（ＲＴＰ）チャンバ用のランプハウジングのろう付けの改良	2026年 3月 6日
特表 2026-507744	モリブデン膜堆積のためのモリブデン（０）前駆体	2026年 3月 5日
特開 2026-35534	半導体パッケージングのためのデジタルバイアシング及びデジタルセル配置の技法	2026年 3月 4日
特開 2026-35583	ダイシールドによる電気めっき共平面性の向上	2026年 3月 4日
特開 2026-35587	共振器、線形加速器構成、及び回転励磁器を有するイオン注入システム	2026年 3月 4日
特開 2026-35605	前駆体を閉じ込めるための改良されたシャワーヘッドポンピング形状寸法	2026年 3月 4日
特開 2026-35621	均一性が改善されたヒータペデスタル	2026年 3月 4日
特開 2026-35715	交換部品収納コンテナのマッピング	2026年 3月 4日
特表 2026-507457	正確な基板間結合のための応力管理	2026年 3月 4日
特表 2026-507695	改良された底部カバレッジおよび均一性のためのマグネトロン設計	2026年 3月 4日
特表 2026-506869	膜堆積及びイオン注入による基板変形の効率的な緩和のための円筒分解	2026年 2月27日
特表 2026-506870	膜堆積及びイオン注入による基板変形の影響関数に基づく緩和	2026年 2月27日
特表 2026-506872	基板の応力及び変形を緩和するための最適化された膜堆積及びイオン注入	2026年 2月27日
特表 2026-506877	ＥＵＶ用化学増幅型レジスト（ＣＡＲ）におけるリソグラフィプロセスフロー中の選択的浸透	2026年 2月27日
特表 2026-506895	フォトリソグラフィのためのオーバーレイ補正	2026年 2月27日

144 件中 1-15 件を表示

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2026-507939 2026-507744 2026-35534 2026-35583 2026-35587 2026-35605 2026-35621 2026-35715 2026-507457 2026-507695 2026-506869 2026-506870 2026-506872 2026-506877 2026-506895

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