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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-543400	半導体デバイスパッケージ	2024年11月21日
特表 2024-543593	回転ディスク上の複数のプラテンの静電クランプを制御するためのシステム及び方法	2024年11月21日
特表 2024-543624	パッケージ基板の電気的、機械的、熱的特性の適合	2024年11月21日
特表 2024-542937	製造機器の保守の質を向上させるための検証	2024年11月19日
特表 2024-542955	調整可能な窒化によるプラズマ処理	2024年11月19日
特表 2024-543105	取り外し可能なシャフトを備えた静電チャック	2024年11月19日
特表 2024-543128	静電チャックのガス供給用多孔質プラグ	2024年11月19日
特表 2024-543156	金属窒化ケイ素膜を形成するためのＮＨラジカル熱窒化	2024年11月19日
特表 2024-543225	ダイヤモンド膜堆積のための気相前駆体シーディング	2024年11月19日
特表 2024-542372	薄膜基板を搬送するための真空処理システム、装置および方法	2024年11月15日
特表 2024-542432	基板処理システムの基板支持体における基板位置校正	2024年11月15日
特表 2024-542484	多相回転ガスクロスフロー及び周辺コンダクタンス制御リングを備えたプラズマチャンバ	2024年11月15日
特表 2024-542530	充填誘電材料を有するゲートオールラウンドトランジスタアーキテクチャ	2024年11月15日
特表 2024-542561	ゲートオールアラウンドトランジスタ及び形成方法	2024年11月15日
特開 2024-160272	プラズマ化学気相成長法のための膜応力制御	2024年11月13日

575 件中 1-15 件を表示

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2024-543400 2024-543593 2024-543624 2024-542937 2024-542955 2024-543105 2024-543128 2024-543156 2024-543225 2024-542372 2024-542432 2024-542484 2024-542530 2024-542561 2024-160272

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