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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2017年 出願公開件数ランキング    第207位 254件 下降2016年:第200位 217件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第227位 136件 上昇2016年:第268位 121件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2017-538864 処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法 2017年12月28日
特表 2017-539087 プロセス均一性を高めるための方法およびシステム 2017年12月28日
特表 2017-539094 基板を洗い流し乾燥させるためのシステム及び方法 2017年12月28日
特開 2017-226919 回転式基板処理システム 2017年12月28日
特開 2017-228531 対称プラズマ処理チャンバ 2017年12月28日
特表 2017-538039 材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法 2017年12月21日
特表 2017-538278 高温処理用静電チャックアセンブリ 2017年12月21日
特表 2017-538291 基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 2017年12月21日
特表 2017-538296 化学機械研磨ツール用の構成要素 2017年12月21日
特開 2017-224614 薄膜封入−OLEDに適用する薄型超高度バリア層 2017年12月21日
特開 2017-224804 処理チャンバ用セラミック被覆石英リッド 2017年12月21日
特開 2017-224823 3D NANDハードマスク用途向けナノ結晶ダイヤモンド炭素膜 2017年12月21日
特開 2017-224824 ラテラルプラズマ/ラジカル源 2017年12月21日
特開 2017-224825 カルーセル原子層堆積のための装置および方法 2017年12月21日
特開 2017-224850 エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 2017年12月21日

255 件中 1-15 件を表示

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2017-538864 2017-539087 2017-539094 2017-226919 2017-228531 2017-538039 2017-538278 2017-538291 2017-538296 2017-224614 2017-224804 2017-224823 2017-224824 2017-224825 2017-224850

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