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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第226位　136件（2016年：第268位　121件）

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-228531	対称プラズマ処理チャンバ	2017年12月28日
特開 2017-226919	回転式基板処理システム	2017年12月28日
特表 2017-539094	基板を洗い流し乾燥させるためのシステム及び方法	2017年12月28日
特表 2017-539087	プロセス均一性を高めるための方法およびシステム	2017年12月28日
特表 2017-538864	処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法	2017年12月28日
特表 2017-538278	高温処理用静電チャックアセンブリ	2017年12月21日
特表 2017-538039	材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法	2017年12月21日
特表 2017-538291	基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法	2017年12月21日
特表 2017-538296	化学機械研磨ツール用の構成要素	2017年12月21日
特開 2017-224614	薄膜封入−ＯＬＥＤに適用する薄型超高度バリア層	2017年12月21日
特開 2017-224850	エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置	2017年12月21日
特開 2017-224804	処理チャンバ用セラミック被覆石英リッド	2017年12月21日
特開 2017-224825	カルーセル原子層堆積のための装置および方法	2017年12月21日
特開 2017-224823	３Ｄ　ＮＡＮＤハードマスク用途向けナノ結晶ダイヤモンド炭素膜	2017年12月21日
特開 2017-224824	ラテラルプラズマ／ラジカル源	2017年12月21日

255 件中 1-15 件を表示

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2017-228531 2017-226919 2017-539094 2017-539087 2017-538864 2017-538278 2017-538039 2017-538291 2017-538296 2017-224614 2017-224850 2017-224804 2017-224825 2017-224823 2017-224824

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