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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第207位 254件
（
2016年：第200位 217件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第227位 136件
（
2016年：第268位 121件）
（ランキング更新日：2026年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-538864 | 処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法 | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-539087 | プロセス均一性を高めるための方法およびシステム | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-539094 | 基板を洗い流し乾燥させるためのシステム及び方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-226919 | 回転式基板処理システム | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228531 | 対称プラズマ処理チャンバ | 2017年12月28日 | |
| 特表 2017-538039 | 材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法 | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-538278 | 高温処理用静電チャックアセンブリ | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-538291 | 基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-538296 | 化学機械研磨ツール用の構成要素 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224614 | 薄膜封入−ＯＬＥＤに適用する薄型超高度バリア層 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224804 | 処理チャンバ用セラミック被覆石英リッド | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224823 | ３Ｄ ＮＡＮＤハードマスク用途向けナノ結晶ダイヤモンド炭素膜 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224824 | ラテラルプラズマ／ラジカル源 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224825 | カルーセル原子層堆積のための装置および方法 | 2017年12月21日 | |
| 特開 2017-224850 | エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置 | 2017年12月21日 |
255 件中 1-15 件を表示
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2017-538864 2017-539087 2017-539094 2017-226919 2017-228531 2017-538039 2017-538278 2017-538291 2017-538296 2017-224614 2017-224804 2017-224823 2017-224824 2017-224825 2017-224850
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