特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第207位　254件（2016年：第200位　217件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第227位　136件（2016年：第268位　121件）

（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-538864	処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成、基板上に層を堆積させるための装置、及び、処理チャンバにおいて基板をマスキングするためのマスク構成の位置を合わせる方法	2017年12月28日
特表 2017-539087	プロセス均一性を高めるための方法およびシステム	2017年12月28日
特表 2017-539094	基板を洗い流し乾燥させるためのシステム及び方法	2017年12月28日
特開 2017-226919	回転式基板処理システム	2017年12月28日
特開 2017-228531	対称プラズマ処理チャンバ	2017年12月28日
特表 2017-538039	材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法	2017年12月21日
特表 2017-538278	高温処理用静電チャックアセンブリ	2017年12月21日
特表 2017-538291	基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法	2017年12月21日
特表 2017-538296	化学機械研磨ツール用の構成要素	2017年12月21日
特開 2017-224614	薄膜封入−ＯＬＥＤに適用する薄型超高度バリア層	2017年12月21日
特開 2017-224804	処理チャンバ用セラミック被覆石英リッド	2017年12月21日
特開 2017-224823	３Ｄ　ＮＡＮＤハードマスク用途向けナノ結晶ダイヤモンド炭素膜	2017年12月21日
特開 2017-224824	ラテラルプラズマ／ラジカル源	2017年12月21日
特開 2017-224825	カルーセル原子層堆積のための装置および方法	2017年12月21日
特開 2017-224850	エピタキシャル成長による成膜方法、および、エピタキシャル成長装置	2017年12月21日

255 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-538864 2017-539087 2017-539094 2017-226919 2017-228531 2017-538039 2017-538278 2017-538291 2017-538296 2017-224614 2017-224804 2017-224823 2017-224824 2017-224825 2017-224850

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数