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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2019年 出願公開件数ランキング    第141位 330件 上昇2018年:第172位 256件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第156位 176件 上昇2018年:第188位 158件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-219671 極端紫外線リソグラフィマスクブランク製造システムとそのための操作方法 2019年12月26日
特開 2019-220688 プラズマエッチングチャンバ内の汚染を低減する装置 2019年12月26日
特開 2019-220691 較正ジグ 2019年12月26日
特表 2019-537218 移動基板の完全プラズマ被覆のための動的フェーズドアレイプラズマ源 2019年12月19日
特表 2019-537236 キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及びキャリアを上げる又は下げるための方法 2019年12月19日
特表 2019-537251 化学機械研磨のためのリアルタイム・プロファイル制御 2019年12月19日
特表 2019-537262 V字型シールバンドを有するセラミック静電チャック 2019年12月19日
特表 2019-537267 効率的なガス分配アセンブリの冷却のための同心状又は螺旋状チャンネルを備える2ゾーンフロー冷却プレートの設計 2019年12月19日
特表 2019-537270 ニューラルネットワークを使用する分光モニタリング 2019年12月19日
特開 2019-214790 拡散障壁層及び浸食防止層を有する多層コーティング 2019年12月19日
特開 2019-214791 有機材料用の蒸発源 2019年12月19日
特開 2019-216086 一体化されたガス分配装置を有するモジュール型高周波源 2019年12月19日
特表 2019-535905 浮遊シャドウリングを有するプロセスキット 2019年12月12日
特表 2019-536272 改善されたロードポートバックプレーンのためのシステム、装置、及び方法 2019年12月12日
特表 2019-536273 スペクトル高周波分析を用いた処理チャンバハードウェア障害検出 2019年12月12日

330 件中 1-15 件を表示

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2019-219671 2019-220688 2019-220691 2019-537218 2019-537236 2019-537251 2019-537262 2019-537267 2019-537270 2019-214790 2019-214791 2019-216086 2019-535905 2019-536272 2019-536273

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