特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第32位　708件（2022年：第56位　541件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第80位　398件（2022年：第112位　303件）

（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2023-554668	マルチチャンバ基板処理プラットフォーム	2023年12月28日
特表 2023-554239	デジタルリソグラフィにおけるローカルセル置換のための適応的置換マップの使用	2023年12月27日
特開 2023-182574	超電導膜を有する多層デバイスの堆積のための方法及び装置	2023年12月26日
特開 2023-182582	可変エッチング深さを有する斜め格子を製造する方法	2023年12月26日
特開 2023-182638	銅配線のためのシード層	2023年12月26日
特開 2023-182644	複数の埋込電極を有する基板支持体	2023年12月26日
特表 2023-553782	重なり合うサセプタ及び予熱リング	2023年12月26日
特表 2023-553975	千鳥配置のポンピング位置を使用した堆積装置及び堆積方法	2023年12月26日
特表 2023-553999	基板エッジの欠陥低減のための研磨システム装置及び方法	2023年12月26日
特表 2023-554013	アノード構造の製造方法、真空堆積システム、アノード構造、及びリチウム電池層スタック	2023年12月26日
特開 2023-181311	先進の半導体プロセス最適化および生産中の適応制御	2023年12月21日
特表 2023-553224	アーク発生を排除し、ＰＶＤ処理の均一なガス分布を改良するためのガス注入処理キット	2023年12月21日
特表 2023-553273	半導体デバイス形成のための下部層膜	2023年12月21日
特表 2023-553359	共振器、線形加速器構成、およびトロイダル共振器を有するイオン注入システム	2023年12月21日
特表 2023-553398	カーボネートパッシベーションを用いた、リチウム金属表面改質	2023年12月21日

708 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-554668 2023-554239 2023-182574 2023-182582 2023-182638 2023-182644 2023-553782 2023-553975 2023-553999 2023-554013 2023-181311 2023-553224 2023-553273 2023-553359 2023-553398

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数