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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件
（
2022年：第56位 541件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件
（2022年：第112位 303件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2023-554668 | マルチチャンバ基板処理プラットフォーム | 2023年12月28日 | |
| 特表 2023-554239 | デジタルリソグラフィにおけるローカルセル置換のための適応的置換マップの使用 | 2023年12月27日 | |
| 特開 2023-182574 | 超電導膜を有する多層デバイスの堆積のための方法及び装置 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-182582 | 可変エッチング深さを有する斜め格子を製造する方法 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-182638 | 銅配線のためのシード層 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-182644 | 複数の埋込電極を有する基板支持体 | 2023年12月26日 | |
| 特表 2023-553782 | 重なり合うサセプタ及び予熱リング | 2023年12月26日 | |
| 特表 2023-553975 | 千鳥配置のポンピング位置を使用した堆積装置及び堆積方法 | 2023年12月26日 | |
| 特表 2023-553999 | 基板エッジの欠陥低減のための研磨システム装置及び方法 | 2023年12月26日 | |
| 特表 2023-554013 | アノード構造の製造方法、真空堆積システム、アノード構造、及びリチウム電池層スタック | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-181311 | 先進の半導体プロセス最適化および生産中の適応制御 | 2023年12月21日 | |
| 特表 2023-553224 | アーク発生を排除し、ＰＶＤ処理の均一なガス分布を改良するためのガス注入処理キット | 2023年12月21日 | |
| 特表 2023-553273 | 半導体デバイス形成のための下部層膜 | 2023年12月21日 | |
| 特表 2023-553359 | 共振器、線形加速器構成、およびトロイダル共振器を有するイオン注入システム | 2023年12月21日 | |
| 特表 2023-553398 | カーボネートパッシベーションを用いた、リチウム金属表面改質 | 2023年12月21日 |
708 件中 1-15 件を表示
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2023-554668 2023-554239 2023-182574 2023-182582 2023-182638 2023-182644 2023-553782 2023-553975 2023-553999 2023-554013 2023-181311 2023-553224 2023-553273 2023-553359 2023-553398
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